碳化硅產(chǎn)業(yè)如何破除發(fā)展瓶頸[ 02-26 13:55 ]

對于未來，我國經(jīng)濟(jì)運(yùn)行仍處于鞏固企穩(wěn)回升的關(guān)鍵時(shí)期，因此，保增長任務(wù)依然艱巨，調(diào)結(jié)構(gòu)、轉(zhuǎn)方式任務(wù)更加迫切。這就需要中國的工業(yè)企業(yè)認(rèn)真貫徹落 實(shí)中央經(jīng)濟(jì)工作會議精神，把結(jié)構(gòu)調(diào)整和發(fā)展方式轉(zhuǎn)變作為今年工作主線，切實(shí)提高工業(yè)增長的質(zhì)量和效益，更加注重技術(shù)改造和自主創(chuàng)新，更加注重培育發(fā)展戰(zhàn)略 性新興產(chǎn)業(yè)，更加注重淘汰落后、兼并重組和節(jié)能減排，推進(jìn)信息化與工業(yè)化融合、軍民結(jié)合，保持工業(yè)平穩(wěn)較快發(fā)展。 碳化硅產(chǎn)業(yè)特征明顯，據(jù)環(huán)球碳化硅網(wǎng)了解近幾年碳化硅產(chǎn)品的出口全面增長，在各行業(yè)領(lǐng)域都有碳化硅的身影，不僅鑄造、油田、化工等大

碳化硅切割料化學(xué)分析方法執(zhí)行[ 05-07 14:05 ]

碳化硅切割料用于單晶硅、多晶硅、砷化鉀、石英晶體等的線切割。高純度、大結(jié)晶的碳化硅原材料，保證了碳化硅切割料的優(yōu)良切割性能和穩(wěn)定的物理狀態(tài)。下面小編 要為大家介紹的是碳化硅切割料標(biāo)準(zhǔn)的測定方法。 　　碳化硅切割料標(biāo)準(zhǔn)測定方法試樣用氯化鈉一鹽酸一氫氟酸處理，使二氧化硅溶解，加鑰酸錢使硅酸離子形成硅鋁雜多酸，用1、2、4一酸還原劑將其還原成硅鑰藍(lán)，于 700nm波長處測定其吸光度。碳化硅在化工行業(yè)可用做煉鋼的脫氧劑和鑄鐵組織的改良劑，可用做制造四氯化硅的原料，是硅樹脂工業(yè)的主要原料。 　　碳化硅切割料化學(xué)分析方法執(zhí)

分析我國碳化硅行業(yè)國家標(biāo)準(zhǔn)與國外標(biāo)準(zhǔn)差異[ 03-07 10:44 ]

   中國目前已基本建成了一套由國家標(biāo)準(zhǔn)、行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)、地方標(biāo)準(zhǔn)和企業(yè)標(biāo)準(zhǔn)組成的標(biāo)準(zhǔn)體系或標(biāo)準(zhǔn)框架體系。目前我國碳化硅無強(qiáng)制性標(biāo)準(zhǔn)，推薦性標(biāo)準(zhǔn)共十四項(xiàng)，行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)共五項(xiàng)。 　　我國現(xiàn)執(zhí)行的碳化硅產(chǎn)品技術(shù)條件國家標(biāo)準(zhǔn)（GB/T2480—2008），根據(jù)不同用途分牌號規(guī)定了粒度組成、化學(xué)成分、磁性物含量、鐵合金粒、密度等項(xiàng)目，相對應(yīng)的檢測分析方法全部等同或等效采用了最新版本的國際標(biāo)準(zhǔn)ISO8486（F磨料粒度組成）、ISO6344（P磨料粒度組成）、ISO9286（化學(xué)分析方法）和

碳化硅在傳統(tǒng)和高科技的各行業(yè)的重要用途[ 02-19 10:22 ]

碳化硅材料是諸多工業(yè)的基礎(chǔ)材料，雖然有著廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域，但這些應(yīng)用領(lǐng)域都需要在工業(yè)經(jīng)濟(jì)良性發(fā)展的基礎(chǔ)上才能正常運(yùn)行，都需要國家工業(yè)經(jīng)濟(jì)在一定增長率的前提下才能正常保證其碳化硅材料有一定的用量 隨著科技的發(fā)展碳化硅的應(yīng)用不會再局限在傳統(tǒng)的行業(yè)，而是逐漸趨向于高端的行業(yè)。比如：碳化硅用在開關(guān)電源技術(shù)上，進(jìn)入21世紀(jì)，開關(guān)電源技術(shù)將會有更大的發(fā)展，這需要我國電力電子、電源、通信、器件、材料等工業(yè)和學(xué)術(shù)各界努力協(xié)作，沿著下述方向，開發(fā)與開關(guān)電源相關(guān)的產(chǎn)品和技術(shù)。而碳化硅SiC是功率半導(dǎo)體器件晶片的理想材料，其優(yōu)點(diǎn)是禁帶寬

碳化硅晶體的中紅外非線性光學(xué)頻率變換效應(yīng)分析[ 11-21 11:19 ]

   中紅外波段激光在分子光譜、氣體探測、環(huán)境保護(hù)、醫(yī)學(xué)、激光通訊、紅外遙感及光電對抗等領(lǐng)域具有重要的應(yīng)用，非線性光學(xué)頻率變換是目前獲得中紅外激光的有效途徑。常用的中紅外非線性光學(xué)晶體（硫化物及硒化物等）受到低激光損傷閾值（ 　　 　　碳化硅是一種重要的寬禁帶半導(dǎo)體材料，由于其具有高的熱導(dǎo)率、大的飽和電子漂移速率及高的擊穿場強(qiáng)，被廣泛應(yīng)用于制備高溫、高頻及大功率電子器件。4H碳化硅點(diǎn)群為6mm，理論上存在二階非線性光學(xué)效應(yīng)。同時(shí)碳化硅優(yōu)異的物理性質(zhì)，如寬的帶隙（2.3-3.2eV）